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[材料资讯] 郭云龙:快速制备有序排列双极性聚合物分子半导体薄膜

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发表于 2018-11-29 08:56:57 | 只看该作者 |只看大图 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式
有机场效应晶体管(OFETs)具有质量轻、可弯曲和可大面积溶液加工等特点,在柔性电子学和可穿戴器件方面具有广阔的应用前景。其中聚合物半导体材料具有电学性能可调节、易于溶液法加工、成本低廉等优势,一直受到广泛关注。但是,聚合物相对分子质量较大,这使分子易于发生扭曲、折叠。同时,弱的分子间相互作用力使分子排列更加混乱。因此,溶液法制备的薄膜中往往存在大量的缺陷,使载流子迁移率难以提高。那么如何才能使聚合物分子整齐有序的排列呢?
最近,中国科学院化学研究所郭云龙研究员刘云圻院士与天津大学胡文平教授合作利用与工业上roll-to-roll(卷对卷)兼容的bar-coating方法制备了分子排列整齐的取向聚合物半导体薄膜。涂布棒以120 mm/s的速度涂膜,可以仅用两秒的时间高效率的制备出A4纸大小的聚合物薄膜,薄膜厚度控制在11纳米。通过溶液溶度的调控,也可以制备出2纳米厚的单分子层薄膜。
涂膜过程中,缠绕在棒上金属线之间会产生均匀的切向力,是促使分子整齐排列的主要因素。移动速度越快,力越大。作者对比了不同移动速度下,半导体的薄膜形貌(图1c-f)。当涂膜速度为120 mm/s时,可以产生线型的取向一致的晶畴。并且通过2D-GIWAXS测试得到聚合物主链与晶畴的方向平行。当载流子传输方向与聚合物主链方向一致时,得到场效应晶体管器件的空穴迁移率为5.5 cm2V-1s-1,电子迁移率为4.5 cm2V-1s-1。器件的迁移率是spin-coating法制备的晶体管性能的9倍。
图1: a) Bar-coating 仪器设备图以及得到的A4大小薄膜;b) Bar-coating 制备PFIBI-BT分子有序排列示意图和分子式;c) spin-coating法制备的聚合物薄膜形貌;d-f) bar-coating法以不同速度制备的多层聚合物薄膜。 Scale bar: 2μm


该研究的最大意义在于,以快速的低成本的方式,制备大面积的有序聚合物半导体分子薄膜。既具有良好的器件性能,又与工业化生产兼容。

参考文献:
Y. Y. Jiang, J. Y. Chen, Y. L. Sun, Q. Y. Li, Z. X. Cai, J. Y. Li, Y. L. Guo,* W. P. Hu,* Y. Q. Liu,* Advanced Materials, 2018, ASAP,1805761.

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