厦门大学材料学院JGP560型双室磁控溅射沉积系统

gmao800

JGP560型双室磁控溅射沉积系统
仪器设备指标
厂家：中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司
型号：JGP560型
溅射室极限真空度：≤8.0x10-6 Pa (经烘烤除气后)；
进样室极限真空度：≤6.67x10-4 Pa (经烘烤除气后)；
系统真空检漏漏率：≤6.6x10-8 Pa.l/S；
系统有5支磁控靶：4支2英寸，1支3英寸；
基片可以水冷，也可以加热，单工位加热最高温度 800℃；
系统具有基片射频反溅清洗和高温退火功能，退火温度最高可达800℃。
用途：制备合金膜、多层膜


联系方式
实验室：科学楼130室
E-mail：jbzhang@xmu.edu.cn
仪器管理员
张锦彬