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[材料测试] 苏州大学纳米科学技术学院电子束蒸发镀膜机

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发表于 2017-4-20 11:17:28 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式
仪器名称及型号 电子束蒸发镀膜机 PVD75
厂家 科特莱思科(上海)商贸有限公司
主要规格及技术指标
1. 基片尺寸≤Ф12英寸      
2. 电子枪功率:5-10 KW
3. 极限真空度:5×10-5 Pa  
4. 真空抽速:3*10-4 Pa/20 min
5. 衬底温度:350℃           
6. 温度均匀性:±10℃        
7. 样平台转速:≤20 r/min     
8. 坩埚数量:4  
9. 镀膜均匀性:±5%(Al)   
10. 控制系统:PC+PLC全自动控制
主要功能及应用范围
电子蒸发镀膜机是一种普适镀膜机,用于镀制各种单层膜、多层膜。可镀各种硬质膜、金属膜。主要用于制备纳米器件、有机光电器件的金属电极,以及制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层。
主要附件
机械泵
联系人:彭明发
联系电话: 65883196
E-mail:mfpeng@suda.edu.cn


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