苏州大学纳米科学技术学院等离子体系统

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仪器名称及型号 等离子体系统 IoN 40
厂家 德国普发拓普公司
主要规格及技术指标
1. 反应腔室：腔体材料铝；尺寸229 mm*330 mm*483 mm；
2. 供气系统：两路气；质量流量计（MFC）控制
3. 真空系统：预真空50mTorr；工艺压力120-2000mTorr
4. 射频源：射频频率13.56MHz；功率0-300W连续可调
5. 控制系统：清洗流程自动控制；
主要功能及应用范围
等离子体去胶机是光刻工艺所必需的辅助设备，在半导体工艺和生物技术方面都有广泛应用。
具体应用可归纳为以下几个方面：
等离子体表面改性；有机物表面等离子体清洗；绑定强度增强；等离子体刻蚀应用；等离子体灰化应用；增强或减弱浸润性。

主要附件
干泵
联系人：彭明发
联系电话：65881259
E-mail：mfpeng@suda.edu.cn