苏州纳米所张子旸联合国家纳米中心在超高精度激光光刻技术上取得重要进展

shiren

亚10 nm的结构在集成电路、光子芯片、微纳传感、光电芯片、纳米器件等技术领域有着巨大的应用需求（图1），这对微纳加工的效率和精度提出了许多新的挑战。激光直写作为一种高性价比的光刻技术，可利用连续或脉冲激光在非真空的条件下实现无掩模快速刻写，大大降低了器件制造成本，是一种有竞争力的加工技术。然而，长期以来激光直写技术由于衍射极限以及邻近效应的限制，很难做到纳米尺度的超高精度加工。近期，中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所张子旸研究员与国家纳米中心刘前研究员合作，在Nano Letters上发表了题为“5 nm Nanogap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography”的研究论文，报道了一种他们开发的新型5 nm超高精度激光光刻加工方法（DOI: 10.1021/acs.nanolett.0c00978）。
　　中科院苏州纳米所张子旸研究员团队长期从事微纳加工技术的开发、高速光通信半导体激光器、超快激光器等的研制工作（ACS Photonics 6, 1581, 2019; Light. Sci. Appl. 6,17170, 2018; ACS Photonics, 5, 1084，2018, Adv. Opt. Photon., 2, 201, 2010; 授权专利：106449897B）；国家纳米中心刘前团队长期从事微纳加工方法及设备的创新研究，发展出了多种新型微纳加工方法和技术（专著：Novel Optical Technologies for Nanofabrications; Nano Letters 17,1065,2017; Nature comm. 7,13742,2016; Adv. Mater. 24,3010,2012; 授权专利：美国US 2011/0111331 A1和日本J5558466）。本研究中使用了研究团队所开发的具有完全知识产权的激光直写设备，利用了激光与物质的非线性相互作用来提高加工分辨率，其有别于传统的缩短激光波长或增大数值孔径的技术路径；并打破了传统激光直写技术中受体材料为有机光刻胶的限制，可使用多种受体材料，极大地扩展了激光直写的应用场景。本项工作中，研究团队针对激光微纳加工中所面临的实际问题出发，很好地解决了高效和高精度之间的固有矛盾，开发的新型微纳加工技术在集成电路、光子芯片、微机电系统等众多微纳加工领域展现了广阔的应用前景。

图1 亚十纳米图形结构的应用领域和方向。

　　本工作中，基于光热反应机理，研究团队设计开发了一种新型三层堆叠薄膜结构。在无机钛膜光刻胶上，采用双激光束（波长为405 nm）交叠技术（见图2a），通过精确控制能量密度及步长，实现了1/55衍射极限的突破（NA=0.9），达到了最小5 nm的特征线宽。此外，研究团队还利用这种超分辨的激光直写技术，实现了纳米狭缝电极阵列结构的大规模制备（如图2b-c）。相较而言，采用常规聚焦离子束刻写，制备一个纳米狭缝电极需要10到20分钟，而利用本文开发的激光直写技术，可以一小时制备约5×105个纳米狭缝电极，展示了可用于大规模生产的潜力。

图2 双束交叠加工技术示意图（左）和5 nm 狭缝电极电镜图（右）。

　　纳米狭缝电极作为纳米光电子器件的基本结构，有着极为广泛的应用。在本研究中，该团队还利用发展的新技术制备出了纳米狭缝电极为基本结构的多维度可调的电控纳米SERS传感器。可在传感器一维方向上对反应“热点”完成定点可控，实现了类似逻辑门“0”、“1”信号的编码和重复（图3a-b），并可通过狭缝间距和外加电压的改变，实现了对反应“热点”强度的精确可调（图3c-d），这对表面科学和痕量检测等研究有着重要的意义。

图3 （a）纳米SERS传感器的光学显微镜图；（b）一维线性扫描下拉曼信号谱；（c）不同宽度下拉曼信号谱；（d）不同外加电压下拉曼信号谱。

　　该论文第一作者为中科院苏州纳米所与中国科学技术大学联合培养硕士研究生秦亮。中科院苏州纳米所与兰州大学联合培养的博士研究生黄源清和青岛大学物理学院夏峰为文章的共同第一作者。张子旸研究员和刘前研究员为论文的通讯作者。本工作得到了国家重点研究计划项目(2016YFA0200403)、国家自然科学基金(No.62875222、11874390、51971070)、Eu-FP7项目(No.247644)、中国博士后科学基金(2017M612182)的支持。


       文章来源：苏州纳米所
       张子旸, 中科院苏州纳米所研究员。苏州工业园区第七届高层次领军人才，国字号高技能人才。2003年获得中国科学院半导体研究所工学博士学位。2003-2004年任日本东京工业大学JST研究员；2004-2006年任加拿大阿尔伯塔大学Alberta Ingenuity Fellow；2006-2014 年任英国国家三五族半导体中心研究员；2013年获英国国家三五族半导体中心永久研究员职位。现任中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所研究员，博士生导师。IEEE, OSA，MRS，SPIE会员、欧盟科学技术与创新项目评审专家，曾获“Japan Science and Technology”研究员称号以及加拿大阿尔伯塔杰出博士后基金---“Alberta Ingenuity Fellowship”。2015-2018年间获江苏省双创人才、江苏省六大高峰人才、江苏省 333 高层次人才、苏州园区海外高层次领军、科技领军人才等荣誉称号。研究领域为半导体光电子材料和器件（激光器、超辐射发光管、超快锁模激光器等）的研制、光子集成器件的研制、低维材料的分子束外延生长研究，在半导体材料和器件领域有突出贡献，共申请七项专利，并获得量子结构的定位生长技术领域相关专利授权。许多工作被Compoundsemiconductors、Laser Focus World、Semiconductor Today等专题报道。以通讯作者在Advances in Optics and Photonics，Light: Science & Applications，ACS Photonics等杂志上发表文章逾百篇、在Springer和Wiley杂志社出版了4篇著作章节、授权多项国际发明专利。
       刘前，日本工学博士，国家纳米科学中心研究员。曾在日本北海道大学和日本国立产业技术综合研究所（AIST）学习工作多年，2005年归国后，任国家纳米科学中心研究员，博士生导师，科技管理部主任。现为国家纳米科学中心二级研究员，中国科学院大学、南开大学教授和苏州纳米所客座研究员，是澳大利亚科学研究委员会（ARC）海外评审专家，《现代物理》的主编，近10个英文和中文杂志的编委，中科院纳米器件重点实验室、哈工大环境与生态纳米技术联合研究中心学术委员会委员，2013年度材料领域中国科学人年度人物称号，2014年爱思唯尔中国高被引学者。作为首席科学家或课题负责人已承担完成国家973、863、基金委重大研究计划、科技部重大研究计划、中科院重点方向性、科技部国际合作、欧盟等科研项目，已在Adv Mater、Nano Letters、JACS、等刊物发表论文160余篇，撰写英文专著一部（Novel Optical Technologies for Nanofabrication, Springer出版）和英文章节多篇，译著一部，获授权和申请中的美、日以及中国发明专利30余项。