武汉理工大学材料学院涂溶

moceng

涂溶(Rong TU)，男，1972年4月生，2003年获日本东北大学工学博士学位。现任武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室教授、湖北省“百人计划”专家、湖北省楚天学者。主要利用固相反应法(热压烧结、放电等离子体烧结)、液相凝固法(弧光放电、悬浮区熔)和气相沉积法(激光化学气相沉积、金属有机化学气相沉积、粉体旋转化学气相沉积、脉冲激光物理气相沉积)制备各种氧化物、碳化物、氮化物和硼化物等超硬陶瓷和涂层、生物陶瓷涂层、热障涂层、无铅铁电陶瓷和薄膜、高温超导薄膜、汽车尾气净化触媒、制氢触媒、宽禁带半导体薄膜和离子导体薄膜等。研究工作在国内外重要期刊上系统发表学术论文160余篇，被SCI收录100余篇，EI收录50余篇。


姓 名        涂溶        性 别        男        民 族        汉        出生年月         1972.04      
职  称        教授        职 务                      联系电话        15172418915
单位名称        新材所        Email        turong@whut.edu.cn
实验室网址        http://fct.group.whut.edu.cn/cn/index.html
研究方向        l 功能薄膜与涂层
l 化学气相沉积
l 物理气相沉积
l 无机非金属材料
教育背景        l 2000/4-2003/3，（日本）东北大学，工学研究科材料加工学，博士（工学）
l 1998/4-2000/3，（日本）东北大学，工学研究科材料物性学，工学硕士
l 1989/9-1993/6，武汉工业大学，材料科学，本科，工学学士
工作经历        l 2012/9-至今，武汉理工大学，材料复合新技术国家重点实验室，教授
l 2010/3-2012/8，（日本）东北大学，金属材料研究所，准教授
l 2004/11-2010/3，（日本）东北大学，金属材料研究所，助教
l 2003/4-2004/10，（日本）东北大学，金属材料研究所，非常勤讲师
l 1996/10-1998/3，（日本）东北大学，金属材料研究所，外国人研究者
l 1993/7-1996/9，武汉工业大学，材料复合新技术国家重点实验室，助手
项目情况        l 国家科技部国际合作专项项目，大尺寸碳化硅的激光化学气相沉积技术及应用合作研发，2014/12-2017/11。
l 国际企业委托项目，卤化物化学气相沉积法制备Ti-Si-C复合材料厚膜成型技术，2015/01-2015/12。
l 国家自然科学基金项目，双激光化学气相沉积法制备刀具超硬涂层，2019.1-2022.12
l 国际合作项目，SiCN涂层的生物和血液相容性，2019.1-2021.12


代表性学术
成果        1 Q. Sun, P. Zhu, Q. Xu, R. Tu, S. Zhang, J. Shi, H. Li, L. Zhang, et al., “High-speed heteroepitaxial growth of 3C-SiC (111) thick films on Si (110) by laser chemical vapor deposition,” Journal of the American Ceramic Society, 101 [1] 1048–1057 (2018).
2 Q. Xu, P. Zhu, Q. Sun, R. Tu, S. Zhang, M. Yang, Q. Li, J. Shi, et al., “Fast preparation of (111)-oriented β-SiC films without carbon formation by laser chemical vapor deposition from hexamethyldisilane without H2,” Journal of the American Ceramic Society, 101 [2] 1471–1478 (2018).
3 P. Zhu, M. Yang, Q. Xu, Q. Sun, R. Tu, J. Li, S. Zhang, Q. Li, et al., “Epitaxial growth of 3C-SiC on Si(111) and (001) by laser CVD,” Journal of the American Ceramic Society, 101 [9] 3850–3856 (2018).
4 P. Zhu, Q. Xu, R. Chen, S. Zhang, M. Yang, R. Tu, L. Zhang, T. Goto, et al., “Structural study of β-SiC(001) films on Si(001) by laser chemical vapor deposition,” Journal of the American Ceramic Society, 100 [4] 1634–1641 (2017).
5 R. Tu, D. Zheng, Q. Sun, M. Han, S. Zhang, Z. Hu, T. Goto, and L. Zhang, “Ultra-Fast Fabrication of <110>-Oriented β-SiC Wafers by Halide CVD,” Journal of the American Ceramic Society, 99 [1] 84–88 (2016).
6.    Tu, Rong，Li, Nian，Li, Qizhong，Zhang, Song，Zhang, Lianmeng，Goto, TakashiMicrostructure and mechanical properties of B4C-HfB2-SiC ternary eutectic composites prepared by arc melting，Journal of the European Ceramic Society，2016，36(4)：959-966。
7.    Tu, Rong，Li, Nian，Li, Qizhong，Zhang, Song，Zhang, Lianmeng，Goto, TakashiEffect of microstructure on mechanical, electrical and thermal properties of B4C-HfB2 composites prepared by arc melting，Journal of the European Ceramic Society，2016，36(16)：3929-3937。
8  R. Tu, Q. Sun, S. Zhang, M. Han, Q. Li, H. Hirayama, L. Zhang, and T. Goto, “Oxidation Behavior of ZrB2-SiC Composites at Low Pressures,” Journal of the American Ceramic Society, 98 [1] 214–222 (2015).
9  S. Zhang, Q. Xu, R. Tu, T. Goto, and L. Zhang, “Growth Mechanism and Defects of <111>-Oriented β-SiC Films Deposited by Laser Chemical Vapor Deposition,” Journal of the American Ceramic Society, 98 [1] 236–241 (2015).
10  S. Zhang, Q. Xu, Q. Sun, P. Zhu, R. Tu, Z. Hu, M. Han, T. Goto, et al., “Effect of Pressure on Microstructure of <111>-Oriented β-SiC Films: Research Via Electron Backscatter Diffraction,” Journal of the American Ceramic Society, 98 [12] 3713–3718 (2015).

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2018自然科学基金面上项目-硬质刀具涂层的连续/脉冲型双激光化学气相沉积机理研究
批准号        51872212        学科分类        先进结构陶瓷 ( E020301 )
负责人        涂溶        职称                单位名称        武汉理工大学
资助金额        60万元        项目类别        面上项目        起止年月        2019年01月01日 至 2022年12月31日