苏州大学纳米科学技术学院光刻机 MJB4

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仪器名称及型号  光刻机 MJB4
厂家 德国SUSS公司
主要规格及技术指标
基片大小：100mm直径或是4” * 4”的基片
基片厚度：可以实现4mm厚度的基片曝光
掩膜板大小：可以实现从2”* 2”到5”* 5”掩膜板
基片种类：可以实现碎片基片（最小5mm*5mm）到4”* 4”的基片的曝光
光源强度：可以安装500W的氙灯
支持恒定光强或恒定功率模式
分辨率：
软接触方式可以实现2um的结构
硬接触方式可以实现1um的结构
使用真空接触方式可以实现0.5um的结构
主要功能及应用范围
光刻机是半导体制造业的重要设备，主要用于加工微电机，目标实现1微米甚至亚微米级别的结构。
主要附件
减震台

联系人：彭明发
联系电话：65883196
E-mail：mfpeng@suda.edu.cn