中山大学光电材料与技术国家重点实验室电感耦合等离子体反应离子刻蚀机

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仪器固定资产编号 20105682  
所属机构 光电材料与技术国家重点实验室
分类号 03060304  
分类名称 反应离子刻蚀台
仪器中文名称 电感耦合等离子体反应离子刻蚀机  
仪器英文名称   
仪器别名   型号 AST Cirie-200S
技术指标 蚀刻反应室抽气速率：真空度<5.0×10^-5Torr（15分钟内）；蚀刻反应室极限真空：8.0×10^-6Torr；装载室抽气速率：真空度<5.0×10^-2Torr（5分钟内）；蚀刻速率>280nm/min；非均匀性≤±5％
应用成果   
功能及特点 真空环境下的半导体新材料制备，
进行GaNg,GaAs,InP等材料的蚀刻。
可提供服务范围 进行GaNg,GaAs,InP等材料的蚀刻  
厂家 台湾聚昌科技股份有限公司  
购置年代 2009年   生产年代 2009年   
共享级别 全国共享  
知名用户   
安放地点 东校区微纳楼623室  
仪器负责人 张佰君  
通信地址 广州市海珠区新港西路135号中山大学理工学院  
邮政编码 510275  
联系电话 020-39943836-8001  传真 020-39943836-8003
电子邮件 zhbaij@mail.sysu.edu.cn  
启用时间 2009/10/15