中山大学光电材料与技术国家重点实验室半自动磁控溅射镀膜机

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仪器固定资产编号 2012A856  
所属机构 光电材料与技术国家重点实验室
分类号 03060303  
分类名称 离子镀膜机
仪器中文名称 半自动磁控溅射镀膜机  
仪器别名   型号 MSP--3300
技术指标 极限真空：溅射室极限真空度≤6.6×10-5Pa (湿度≤55%)进样室极限真空度≤1.0×10-1Pa，漏气速率：≤10-9Pa？L/sec； 系统抽速：通过进样室送样后抽至8×10-4Pa≤10分钟，可局部加温，工件盘可旋转。  
应用成果   
功能及特点 功率源采用进口美国AE，一套RF1000W射频电源；一台DC3000W直流电源,分别供四个溅射靶使用。 溅射材料：各种金属膜、非金属膜、介质膜、单层膜、多层膜、磁性膜。溅射不均匀性：≤±5%（4英寸范围内）  
可提供服务范围   
对样品的要求   
主要附件   
仪器检定情况 不需检定校准     
购置年代 1980年   生产年代 1980年   
共享级别 全国共享  
知名用户   
安放地点 南校区激光所106室  
仪器负责人 江绍基  
通信地址 广州市海珠区新港西路135号中山大学理工学院  
邮政编码 510275  
联系电话 020-84113306  传真 020-84113306
电子邮件 stsjsj@mail.sysu.edu.cn  
启用时间 2011/4/16