找回密码
 立即注册

QQ登录

只需一步,快速开始

郑美玲等无掩模光学投影超衍射纳米光刻技术研究取得新进展

查看数: 822 | 评论数: 0 | 收藏 0
关灯 | 提示:支持键盘翻页<-左 右->
    组图打开中,请稍候......
发布时间: 2021-5-27 08:55

正文摘要:

数十年来,光刻作为一种有效的图形转移技术,在实现功能性微纳米尺度结构制备方面一直扮演着重要角色,基于掩模的光刻技术在微电子工业的发展中起着不可或缺的作用。随着器件小型化和集成化,亟需发展高效、灵活的跨 ...

回复

小黑屋|手机版|Archiver|版权声明|一起进步网 ( 京ICP备14007691号-1

GMT+8, 2024-6-4 11:59 , Processed in 0.096372 second(s), 40 queries .

Powered by Discuz! X3.2

© 2001-2013 Comsenz Inc.

快速回复 返回顶部 返回列表