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数十年来,光刻作为一种有效的图形转移技术,在实现功能性微纳米尺度结构制备方面一直扮演着重要角色,基于掩模的光刻技术在微电子工业的发展中起着不可或缺的作用。随着器件小型化和集成化,亟需发展高效、灵活的跨 ...
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