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教师姓名 赵洪阳 性 别 女 职 称 特聘教授
毕业学校 山东大学 毕业专业 材料学
最终学历 博士
研究生 最终学位 博士 所属专业 材料物理
电子邮箱 zhaohy@wit.edu.cn 联系电话
通信地址 湖北武汉东湖新技术开发区流芳大道特1号,武汉工程大学材料科学与工程学院(430205)
个人简介 2008年于山东大学获得博士学位;2008年到2012年在日本国立材料研究所做博士后研究,分别担任日本学术振兴会特别研究员 (JSPS research fellow)、NIMS项目研究员,目前担任NIMS客座研究员;2012年以所“百人计划”、副研究员进入中国科学院上海硅酸盐研究所工作;2015年武汉工程大学材料学院,“楚天学子”、“工大学者”特聘教授。
研究方向
1. 新型晶体材料的探索,主要是二维晶体材料,研究其微观结构及光电磁特性;
2. 薄膜材料,主要包括多铁性、超导等功能材料,研究其磁电性能及物理机制。
进修留学 2008-2012年在日本国立材料研究所:JSPS外国人特别研究员、NIMS项目研究员。
研究生培养 在读硕士2人。
在研项目
(1)JSPS short term program,No.S-15060、“Bi系・Hf系薄膜のPFM強誘電体ドメイン制御とMFM・TEM強磁性ドメイン観察”、2015.6-2015.8、 123万日元,主持。
(2)武汉工程大学“工大学者”计划,“光电/磁电晶体及薄膜材料的研究”、2015.1-2019.12、60万人民币,主持。
(3)国家自然科学基金青年基金,51402327、“Aurivillius相铋层状结构多铁性晶体的生长及磁电效应研究”、2015.1-2017.12、25万人民币,主持。
(4)中科院上海硅酸盐研究所所百人计划,“新型多铁性材料的探索研究”、2012. 10-2015.10、80万人民币,主持。
(5)上海硅酸盐研究所科技创新项目,Y32ZC1110G、“铋层状结构多铁性晶体的生长与性能研究”、2013.1-2014.12、8万人民币、主持、已结题。
(6)日本学术振兴会(JSPS),No.P 09608、“新しい強磁性強誘電体合成法の確立と電気・磁気特性最適因子の解明”、2009.9-2011.9、200万日元、主持、已结题。
(7)日本文部省GRENE项目1项(3400万日元)、国家自然科学基金重点项目1项,参与。
科研成果 发表SCI论文五十多篇,参与编写上海辞书出版社“大辞海”一书。参加有影响力的国际学术会议18次,邀请报告为8次。代表性论文:
1. “Phase Evolution and Dielectric/Ferroelectric Properties of KTa0.67Nb0.33O3 Single Crystal”,Xiaojie Zheng, Hongyang Zhao*, Xuping Wang, Bing Liu, Jianding Yu, Xinluo Zhao, Ceramic International, 41(S1), S197-201 (2015).
2. “Large magnetoelectric coupling in magnetically short-range ordered Bi5Ti3FeO15 film”, Hongyang Zhao, Hideo Kimura, Minora Osada, Zhenxiang Cheng, Xiaolin Wang, Takao Matsumoto, Tetsuya Tohei , Naoya Shibata , Yuichi Ikuhara,Scientific Reports 4, 5255 (2014).
3. “A new multiferroic heterostructure of YMnO3/SnTiO3+x”, Hongyang Zhao, Hideo Kimura, Zhenxiang Cheng, Xiaolin Wang, Qiwen Yao, Minora Osada, Baowen Li, Takashi Nishida,
Scripta Materialia 65 (7), 618-621 (2011).
4. “Room temperature multiferroic properties of Nd: BiFeO3/Bi2FeMnO6 bilayered films”, Hongyang Zhao, Hideo Kimura, Zhenxiang Cheng, Xiaolin Wang, Takashi Nishida, Applied Physics Letters 95, 230904 (2009).
5. “Lattice vibration and thermal properties of a stoichiometric crystal KYb(WO4)2”, Hongyang Zhao, Jiyang Wang, Jing Li, Guogang Xu, Huaijin Zhang, Lili Yu, Wenlan Gao, Hairui Xia, Robert I. Boughton, Crystal Growth & Design 8 (11), 3978-3983 (2008).
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