德国卡尔蔡司公司场发射扫描电镜SIGMA 300

世界可见光及电子光学的领军企业——德国蔡司公司始创于1846年。其 电子光学前身为LEO(里奥),更早叫Cambridge(剑桥)和Zeiss。积扫描电镜领域40多年及透射电镜领域60年的经验,电子光学成像技术在世界上创造了数个里程碑:

  与AEG公司合作实现了透射电子显微镜的商业化(1949)

  陆续推出的EM9型电子显微镜是世界上首台具有自动曝光控制的电磁式

  透射电子显微镜TEM(1956)

  推出EM902型配用Castaing-Henry过滤器商用电子显微镜,用户利用

  该种新产品能够得到高分辨率元素分布图片(1984)

  配用静电电磁物镜(Gemini技术)的场发射扫描电子显微镜DSM982

  Gemini投放市场(1993)

   推出具有Koehler照明的200KV场发射透射电镜(2003)

   推出具有镜筒内校正Omega能量滤波器的场发射透射电镜(2003)

   CARL ZEISS其前瞻性和完善的设计,融合欧洲至上的制造工艺, 造就了该品牌在光电子领域的领军地位。自成立至今,一直延续不 断创新的传统,公司拥有广泛的专有技术,随着离子束技术和基于电子束的 分析技术的加入,可为您提供钨灯丝扫描电镜、场发射扫描电镜、双束显微镜(FIB and SEM)、透射电子显微镜等全系列解决方案。其产品的高性能、 高质量、高可靠性和稳定性已得到世界范围内广大用户的信赖与认可。

   作为一家电子光学产品提供商,我们将为您提供完善的纳米技术解决方案,并且以专业化的手段让您的投资物有所值。无论您是企业还是科研机构,卡尔 蔡司在高质量电子光学系统方面优良的传统都会为您的业绩做出积极的贡献。

核心技术

蔡司公司推出Sigma300场发射扫描电镜采用成熟的GEMINI光学系统设计,将低电压成像技术发挥到了极致,采用适宜的探针电流范围,降低50%的信噪比从而提升了85%的衬度信息。Sigma300将高级的分析性能与场发射扫描技术相结合,多种探测器可选:用于颗粒、表面或者纳米结构成像。Sigma自动的四步工作流程大大节省了设置与分析操作的时间,提高效率。

技术参数

分辨率:1.0nm@30kV STEM

                1.0nm @15 kV 

                1.8nm @1kV

放大倍数:10-1,000,000×

加速电压:调整范围:0.02-30 kV(无需减速模式实现)

探针电流: 3pA～20nA(100nA选配)  稳定性优于 0.2%/h

低真空范围: 2-133Pa (Sigma 300VP可用)

样品室: 365 mm(φ),275mm(h)

样品台:5轴优中心全自动  

                 X=125mm

                 Y=125 mm

                 Z=50 mm

                 T=-10o-90o

                 R=360o 连续

系统控制:基于Windows 7的SmartSEM操作系统,可选鼠标、键盘、控制面板控制

存储分辨率:32k x 24k pixels

产品应用    

扫描电镜(SEM)广泛地应用于金属材料(钢铁、冶金、有色、机械加工)和非金属材料(化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维)等 检验和研究。在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域进行材料的微观形貌、组织、成分分析,各种材料的形貌组织观察,材料断口分 析和失效分析,材料实时微区成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面扫描和线扫描分布测量,晶体、晶粒的相鉴定,晶粒尺寸、形状分析,晶体、晶 粒取向测量。

场发射显微镜是米勒(muller)在1936年发明的,但其重要性却直到第二次世界大战之后才逐渐被认识,近年来,超高真空技术飞速进步,为场发射显微镜的发展和应用提供了条件,现在场发射显微镜已成为在表面现象的研究中最受重视的一种技术。利用这种技术使我们能够直接观察到不同晶面的不同吸附性质以及吸附原子或分子在表面上的活动情况,甚至可以看到个别吸附分子的象。